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書誌情報サマリ

書名

防汚・抗菌の技術動向 ([CMCテクニカルライブラリー])

著者名 角田 光雄/監修
著者名ヨミ ツノダ テルオ
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2010.4


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No. 資料番号 請求記号 帯出区分 状態 配架場所 貸出
1 0105517510576.8/ボウ/貸閲複可在庫 2階一般

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2010
コーティング 光触媒 高分子材料 帯電防止

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1009950817946
書誌種別 和図書(一般)
著者名 角田 光雄/監修
著者名ヨミ ツノダ テルオ
出版者 シーエムシー出版
出版年月 2010.4
ページ数 6,266p
大きさ 21cm
ISBN 4-7813-0190-7
分類記号 576.89
分類記号 576.89
書名 防汚・抗菌の技術動向 ([CMCテクニカルライブラリー])
書名ヨミ ボウオ コウキン ノ ギジュツ ドウコウ
内容紹介 防汚技術の基礎、光触媒技術を応用した防汚技術、高分子材料によるコーティング技術、帯電防止技術の応用を取り上げ、解説する。実際の応用例も多数紹介する。
叢書名 [CMCテクニカルライブラリー]
叢書名 ファインケミカルシリーズ

(他の紹介)目次 第1章 防汚技術の基礎(汚れるということ)
第2章 光触媒技術を応用した防汚技術(光触媒の機能と材料
加工技術
抗菌効果とその評価方法
光触媒の実用化例)
第3章 高分子材料によるコーティング技術(アクリルシリコン樹脂
フッ素材料
結果および考察
総括)
第4章 帯電防止技術の応用(帯電防止
帯電防止による防汚コーティング技術に代わる新しい技術の動向
粒子汚染への静電気の影響と制電技術
クリーンルーム内における静電気)
第5章 実際の応用例(半導体工場のケミカル汚染対策
抗菌性プラスチック材料の複雑表面被覆
半導体プロセスにおける防汚技術
超精密ウェーハ表面加工における防汚
光触媒による環境浄化技術
機械加工分野)


目次


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