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書誌情報サマリ

書名

プラズマ半導体プロセス工学 

著者名 市川 幸美/共著
著者名ヨミ イチカワ ユキミ
出版者 内田老鶴圃
出版年月 2003.7


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No. 資料番号 請求記号 帯出区分 状態 配架場所 貸出
1 0104438338549.8/プラ/貸閲複可在庫 書庫3

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2003
549.8 549.8
半導体 プラズマ物理学

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

タイトルコード 1009950150490
書誌種別 和図書(一般)
著者名 市川 幸美/共著   佐々木 敏明/共著   堤井 信力/共著
著者名ヨミ イチカワ ユキミ ササキ トシアキ テイイ シンリキ
出版者 内田老鶴圃
出版年月 2003.7
ページ数 289p
大きさ 22cm
ISBN 4-7536-5048-0
分類記号 549.8
分類記号 549.8
書名 プラズマ半導体プロセス工学 
書名ヨミ プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク
副書名 成膜とエッチング入門
副書名ヨミ セイマク ト エッチング ニュウモン
内容紹介 プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説する。

(他の紹介)内容紹介 本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマCVDとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
(他の紹介)目次 第1章 プラズマと半導体プロセス
第2章 半導体プロセス用プラズマの基礎
第3章 半導体プロセス装置の概要
第4章 プラズマCVD技術
第5章 薄膜の評価方法
第6章 プラズマエッチング技術
第7章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論


目次


内容細目

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